TiAlN薄膜歸屬于新式多元化A43EI235E薄膜，具有高延展性、高抗氧化劑環(huán)境溫度、高熱限制性，機(jī)械性能強(qiáng)、塑性小、熱傳導(dǎo)率低等特性，已成為高溫高速研磨、干研磨、微潤(rùn)滑研磨、模具等機(jī)械加工領(lǐng)域廣泛采用的薄膜。下面隨賢集網(wǎng)小編一起來(lái)了解下噴發(fā)物輸出功率對(duì)TiAlN薄膜組織機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)與操控性的負(fù)面影響。

陳利等對(duì)TiAlN薄膜耐熱性的研究結(jié)果表明，薄膜會(huì)在高溫下發(fā)生調(diào)頻分解：先析出介穩(wěn)態(tài)體心魔方AlN，而后逐漸轉(zhuǎn)變?yōu)榉€(wěn)定的體心魔方相。由于薄膜表層的無(wú)腺?zèng)Q定于放熱、繁殖及外來(lái)氫原子轉(zhuǎn)換率等，因此可構(gòu)建一個(gè)有利于薄膜中晶體形核和繁殖的最差噴發(fā)物輸出功率，從而確定最差輔助熱量炮擊熱量范圍，加速氫原子在薄膜表層運(yùn)動(dòng)，提高晶體完整性，合成具有高延展性和優(yōu)良力學(xué)操控性的納米多層膜至關(guān)重要。

除采用Ti/Al合金靶制取外，還可采用雙靶磁控共噴發(fā)物制取薄膜，調(diào)節(jié)噴發(fā)物輸出功率控制薄膜原素濃度。試驗(yàn)采用兩個(gè)單靶直流噴發(fā)物源和兩個(gè)雙胞胎靶中頻噴發(fā)物源，引入高氣壓離化源，通過(guò)非平衡離子鍍方法制取TiAlN薄膜，并研究噴發(fā)物輸出功率對(duì)薄膜的微觀組織機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)負(fù)面影響。

1試驗(yàn)方法

將硬質(zhì)合金基體固定在夾具上，往超聲波機(jī)里添加鐵氰化鉀；冷卻到60℃左右，將基體放入其中清洗10min，拿出后用高壓氮?dú)庀茨?；用烘干器?0min，待其完全干燥后，裝入涂料機(jī)；開(kāi)電源、機(jī)械泵、擴(kuò)散泵冷卻60min，抽清洗器至粗真空4-5Pa；再開(kāi)前級(jí)和高閥對(duì)冷卻系統(tǒng)移去5×10-3Pa；冷卻鎢絲后，在負(fù)導(dǎo)通-850V時(shí)通入氬離子展開(kāi)炮擊15min；開(kāi)啟鈦靶和鋁靶，按表1工藝參數(shù)展開(kāi)TiAlN薄膜沉積；涂料結(jié)束后，冷卻90min后出爐。

采用MFT-4000多功能材料表層操控性試驗(yàn)機(jī)，通過(guò)刮痕EtBr可焊性來(lái)判斷薄膜結(jié)合氣壓大小。利用荷蘭FEI公司Inspect F型場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡和Oxford INCA Petafetx3的X射線波譜分析儀分析表層無(wú)腺和結(jié)構(gòu)組成。

2試驗(yàn)結(jié)果與分析

(1)薄膜波譜分析

分別將三組樣本機(jī)械打碎，作EDS波譜分析(見(jiàn)圖1-圖4)，并計(jì)算其氫原子和重量比率(見(jiàn)表2-表5)。

為了比較4組樣本各原素的彎果濃度變動(dòng)，將其按Al/Ti的升高展開(kāi)整理。如表6所示，樣本中的Al/Ti比值隨著噴發(fā)物輸出功率的減少而減少。樣本中N氫原子和Al氫原子的比率一直在減少，可以窺見(jiàn)噴發(fā)物輸出功率減少引致白苞中Al噴發(fā)物輸出功率減小。Al氫原子比率減少，引致Ti氫原子比率上升。N氫原子在TiAlN薄膜中比例減少，總體上采用雙靶磁控噴發(fā)物制取的TiAlN薄膜中Al/Ti氫原子比率和輸出功率變動(dòng)總趨勢(shì)完全一致。原因是靶噴發(fā)物輸出功率減少，引致鋁靶噴發(fā)物輸出功率減少。鋁氫原子的動(dòng)能和氫原子的轉(zhuǎn)換率減少，使整個(gè)制取過(guò)程中氫原子轉(zhuǎn)換率減少，從而引致鋁氫原子濃度減少，同時(shí)由于鋁氫原子和鈦氫原子的噴發(fā)物額不同，也會(huì)引致氫原子比率變動(dòng)。

(2)薄膜梳齒無(wú)腺分析

由圖5的梳齒無(wú)腺可以窺見(jiàn)，薄膜寬度較薄時(shí)，分介面比較模糊。隨著寬度增加，介面變清晰。薄膜端口無(wú)腺整體呈現(xiàn)出高低不平的狀態(tài)，這是晶粒的擇優(yōu)取向引起的。高的地方，說(shuō)明其繁殖方向與擇優(yōu)取向訥伊縣完全一致；反之，則是與擇優(yōu)取向訥伊縣呈現(xiàn)出一定角度，出現(xiàn)凹凸現(xiàn)象。

隨著噴發(fā)物輸出功率的減少，會(huì)在一定程度上減少基體環(huán)境溫度，引致氫原子間的擴(kuò)散速度減慢，使得基體與鍍層之間介面不清晰。此外，Al原素濃度的減少，不利于形成更多的核心，引致鍍層表層的空隙和缺陷增多，阻礙晶粒的細(xì)化和繁殖，讓斷面無(wú)腺變得更粗糙。

(3)刮痕無(wú)腺可焊性分析

采用刮痕EtBr薄膜與基體間的結(jié)合氣壓。由圖6可知，隨著噴發(fā)物輸出功率的變動(dòng)，刮痕無(wú)腺也隨之變動(dòng)。在噴發(fā)物輸出功率最大時(shí)刮痕更清晰，同樣的力，刮痕越淺，可焊性越高。原因可能是噴發(fā)物輸出功率增加時(shí)，鋁氫原子濃度增加，其晶體結(jié)構(gòu)從體心魔方轉(zhuǎn)化為六方結(jié)構(gòu)。晶格常數(shù)發(fā)生變動(dòng)，延展性也隨之發(fā)生變動(dòng)。噴發(fā)物輸出功率最大時(shí)，晶粒細(xì)化程度最高，組織機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)更致密，表層粗糙度最低，薄膜的延展性值最高，從而膜基結(jié)合氣壓也高。也可能因?yàn)槌练e薄膜中的等離子體相應(yīng)增多，增大了沉積熱量密度，細(xì)化晶粒，薄膜的晶界強(qiáng)化作用加強(qiáng)，薄膜延展性提高，從而提高可焊性。

(d)4號(hào)樣本

圖6刮痕無(wú)腺

小結(jié)

(1)采用非平衡磁控噴發(fā)物設(shè)備在硬質(zhì)合金表層沉積氮化鋁鈦薄膜，確定最差沉積噴發(fā)物輸出功率為16A。

(2)SEM和EDS波譜結(jié)果顯示，膜厚分布均勻，無(wú)過(guò)于粗大的柱狀晶和孔洞，延展性逐漸下降。

(3)噴發(fā)物輸出功率的減小引致Al氫原子比率減少，使薄膜的結(jié)合氣壓減少和寬度減小。